KLA-Tencor, 광학 및 EUV 레티클 블랭크 검사용 최신 FlashScan 제품군 발표

신형 FlashScan 레티클 블랭크 검사 제품군

KLA-Tencor(KLA-Tencor Corporation)가 신형 FlashScan 레티클 블랭크 검사 제품군을 발표했다. KLA-Tencor는 1978년 처음으로 검사 시스템을 도입한 이래로 패턴 레티클 검사 분야에서 중대한 역할을 해왔지만, 새로 출시된 FlashScan 제품군은 레티클 블랭크 검사 전용 제품 시장으로 진출한다는 데에 그 의미가 있다. 레티클 블랭크 검사 시스템은 블랭크 제조업체에서 공정 개발 및 양산 과정 중에 결함 관리를 위해 구매하며, 레티클 제조업체(“마스크 숍”)에서 예정된 검사 시행, 툴 모니터링 및 공정 제어의 용도로 구매하고 있다. FlashScan 시스템은 광학 또는 극자외선(EUV) 노광용으로 고안한 레티클 블랭크를 검사할 수 있다. KLA-Tencor의 레티클 및 광대역 웨이퍼 검사 부문 전반 관리자인 야린 시옹(Yalin Xiong) 박사는 “발전적 노광(Advanced lithography)은 잘 특성화한 레티클 블랭크부터 시작한다”며, “결함이 없는 EUV 블랭크는 제조하기 극히 까다롭기로 악명이 높다. 비용도 많이 들고, EUV 노광이 차세대 칩 제조에 가져다줄 수 있는

KLA-Tencor, 새로운 Teron™ SL650 레티클 검사 시스템 발표

KLA-Tencor Corporation은 20nm 이하의 설계 노드를 지원하는 IC 반도체 공장용의 새로운 레티클 품질 제어 솔루션인 Teron™ SL650을 발표했다. Teron SL650은 193nm 조명 기술과 다양한 STARlight™ 옵틱 기술을 기반으로 입고되는 레티클의 품질을 평가 및 레티클 변형을 모니터링하고, 패턴이 형성된 부분과 개방부의 헤이즈(haze) 증가 또는 오염과 같은 수율에 영향을 주는 불량을 감지하는 데 요구되는 감도와 유연성을 제공한다. 또한 업계 최고 수준을 자랑하는 Teron SL650의 생산 처리량은 어드밴스트 멀티패터닝(advanced multi-patterning) 기법과 관련하여 많은 수의 레티클을 검증하는 데 필요한 빠른 사이클 타임을 지원한다. Teron SL650에는 각각 싱글 다이 레티클과 멀티 다이 레티클을 지원하는 STARlightSD™ 및 STARlightMD™가 사용되어 공장 내에서 다양한 레티클 유형을 혼용할 수 있기 때문에 불량 포착 성능이 우수하고 포괄적인 검사가 가능하다. 또한 칩메이커는 혁신적인 STARlightMaps™ 기술을 사용하여 시간 경과에 따른 레티클 변형을 추적하고