알테라와 TSMC, 55nm EmbFlash 공정 위해 협력

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알테라 코포레이션과 TSMC는 TSMC의 55nm 첨단 EmbFlash(Embedded Flash) 공정 기술을 이용한 기술 협력 프로그램을 오늘 발표했다. TSMC의 55nm EmbFlash 기반 프로그래머블 디바이스는 차량 및 산업용을 포함한 다양한 시장의 다양한 저전력 대량 애플리케이션을 겨냥하고 있다. 이전 세대의 임베디드 플래시 대비 TSMC의 55 nm EmbFlash는

알테라-TSMC, 55nm 첨단 EmbFlash 공정기술 기술협력 추진

알테라와TSMC는 TSMC의55nm 첨단 EmbFlash(Embedded Flash) 공정기술을 이용한 기술협력 프로그램을 발표했다. TSMC의55nm EmbFlash 기반 프로그래머블 디바이스는 차량 및 산업용을 포함한 다양한 시장의 다양한 저전력 대량 애플리케이션을 겨냥하고 있다. 이전 세대의 임베디드 플래시 대비 TSMC의55 nm EmbFlash는 보다 높은 속도의 컴퓨팅 성능을 제공하고 게이트 밀도를 10배